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Piastra di zona Fresnel a raggi X (FZP)
Piastra di zona Fresnel a raggi X (FZP)
Dettagli del prodotto

NTTFZPInciso a seccoTaforma. Ha un'eccellente elevata durataXRadiazione di radiazione, alta risoluzione e alto contrasto, modelli chiari dell'assorbitore,S/NRapporto elevato, meno difetti di imaging,Può essere applicato idealmente aXMicroscopio a raggi XXRadiazioni e MicrofasciXImmagini radiografiche.
Inoltre, fornisce anche software perXRadiazioni e ultravioletti estremi(EUVXUV)In campoTaModello/SiNTipo di membranaFZPeAuModello del bordo/SiNTipo di membranaFZPE fornire un gradino (ologramma Kino)FZP


modello

Rapporto di aspetto

Materiale della membrana

Spessore del film

μm

ΔRn

nm

D

μm

N

Tm

nm

FZP-S38/84

4.2

SiN

0.15

38

84

550

160

FZP-S50/80

5

SiN

0.2

50

80

400

250

FZP-S40/155

5

SiN

2

40

155

970

200

FZP-S50/330

8

SiN

1

50

330

1,650

400

FZP-S86/416

8

SiN

2

86

416

1,200

700

FZP-100/155

8

SiN

2

100

155

388

800

FZP-173/208

5.8

SiN

2

173

208

300

1,000

FZP-200/206

8

SiN

2

200

206

255

1,600

FZP-C234/2500

0.6

SiC

0.2

234

2,500

2,670

150



L'EUV-FZP di NTT-AT è stato ottimizzato per le lunghezze d'onda EUV.

Il modello assorbente di Ta sul film sottile raggiunge sotto 100nm/a

Minorità 100 nanometri messa a fuoco e imaging, ecc

Microscopio EUV

Generazione di nanofasci EUV

-Ispezione EUV ultrafine



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