L'attività (acidità) del residuo di silicio idrossile sulla superficie del silicone, i residui metallici nel silicone e l'ineguaglianza della superficie del silicone sono fattori importanti che causano l'asimmetria del pico cromatografico dei composti polari, il ritardo e la scarsa riproduttività. L'innovativa tecnologia di trattamento superficiale a doppio strato in silicone di Bonaire Technology può superare efficacemente gli effetti di questi fattori che causano una scarsa separazione dei composti polari.
Bonaire Technologies presenta una soluzione di sistema per la separazione HPLC di composti polari forti basata sulla tecnologia di trattamento superficiale a doppio strato in silicone: le colonne cromatografiche Venusil MP C18, Venusil ASB C18* e Venusil HILIC rendono la separazione di composti polari forti più difficile e otterrai un'esperienza cromatografica senza precedenti.
Il principio della tecnica di trattamento superficiale a doppio strato di silicone come mostrato nella Figura 1, il silicone A prima utilizza il silicato B per legare la superficie per ottenere C, C ulteriormente idrolizzato in D, D in relazione al silicone A iniziale, aggiungendo un nuovo strato di superficie (la sezione di quadro immaginario di D nella Figura 1).
Lo strato superficiale aggiunto ha i seguenti vantaggi rispetto allo strato superficiale iniziale del silicone A:
Il nuovo strato superficiale riduce notevolmente l'acidità idrossilica del silicio (pH idrossilica della nuova superficie = 5,2, normale pH idrossilica del silicio = 3,5), l'attività idrossilica del silicio diminuisce, la secondaria ritenzione dei composti alcalini
L'effetto è notevolmente ridotto e i picchi dei composti alcalini sono più acuti e simmetrici.
Il nuovo strato superficiale copre i residui metallici nel silicone iniziale, aumentando la purezza della superficie del silicone, bloccando gli effetti negativi dei residui metallici sui composti polari e migliorando notevolmente il tipo di picco.
Il nuovo strato superficiale copre la superficie non uniforme causata dalla formazione di microcristalli di silicone, rendendo la superficie del silicone più uniforme e migliore riproducibilità.
Il nuovo strato superficiale ha più idrossili di silicio, idrofilità aumentata, può utilizzare acqua al 100% o sale tampone come fase di flusso, flessibilità di sviluppo del metodo aumenta notevolmente.
Figura 1 Schema di trattamento superficiale a doppio strato in silicone
Figura 2 Schema della tecnica di legame superficiale in silicone Venusil ASB C18
NOTA: Venusil ASB C18 legano isobutilsilano sulla formazione di nuovi strati superficiali di silicone.