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Finestra a film sottile in nitruro di silicio
Finestra di film di nitruro di silicio
Dettagli del prodotto

Il plasma può essere utilizzato per pulire la materia organica residua, ridurre i cambiamenti di campo e può resistere alle temperature > 1000 ℃ per l'osservazione in ambienti ad alta temperatura. La microscopia elettronica di trasmissione può resistere a deposizioni dure e condizioni chimiche, fornendo un equilibrio ideale tra la risoluzione di imaging e la resistenza meccanica. CVD a bassa pressione e bassa tensione sono utilizzati per fornire una superficie piana, isolante e idrofoba.

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