KLAdiFilmetricsLa serie utilizza la tecnologia di riflettanza spettrale per ottenere una misurazione precisa dello spessore del film, con un intervallo di misura danm-mmPuò raggiungere la misurazione precisa dello spessore di film quali fotoresist, ossidi, silicio o altri film semiconduttori, film sottili organici, film trasparenti conduttivi, ecc., ed è ampiamente usato in semiconduttore, microelettronica, biomedicale e altri campi.FilmetricshannoF10-HC、F20、F32、F40、F50、F60- tIn attesa di più prodotti, quanti possono essere misuratimmVai a450mmDimensione del campione, intervallo di misura dello spessore del filmDa 1nm a mm di livello. F40Utilizzato per misurare i punti luminosi<1µmLo spessore della pellicola sottile.

Principio di misura - Riflettanza spettrale

Ellissometro spettrale(SE)Riflettometro spettrale (SR)Tutti utilizzano l'analisi della luce riflessa per determinare lo spessore e l'indice di rifrazione di dielettrici, semiconduttori e film sottili metallici. La differenza principale tra i due è che gli ellissometri misurano la luce riflessa da film sottili a piccoli angoli, mentre gli spettrometri misurano la luce riflessa verticalmente da film sottili. La reflectometria spettrale misura la luce verticale e ignora gli effetti di polarizzazione (la stragrande maggioranza dei film sottili sono simmetrici rotazionali). Poiché non coinvolge alcun dispositivo mobile, il reflectometro spettrale è diventato uno strumento semplice e a basso costo. La riflettometria spettrale può essere facilmente integrata con un'analisi di trasmittanza più potente. La reflectometria spettrale è solitamente utilizzata quando lo spessore del film supera10umIl metodo preferito è l'ellissometria, che si concentra sulla sottigliezza10nmLo spessore della pellicola. Inda 10nm a 10umTra spessori, entrambe le tecniche sono disponibili. Inoltre, i riflettori spettrali che sono veloci, semplici ed economici sono solitamente una scelta migliore.

Principali applicazioni

Misura spessore, indice di rifrazione, riflettività e trasmittanza:

• Pellicola monostrato o sovrapposizione di film multistrato
• Strato di membrana singolo
• Pellicola liquida o strato d'aria

Capacità tecnica

Gamma di lunghezze d'onda spettrali： 190-1700 nm

Campo di misura dello spessore:1nm-250 μm

Misurare lo spessore minimo di n&k:50 nm

Accuratezza: Prendete il valore più grande,1nm o 0,2%

Precisione:0,02 nm

Stabilità:0,05 nm

Dimensione spot: minima realizzabile0,5 µm

Dimensione del campione: diametro dada 1mm a 300mmO più grande

Film sottili a semiconduttore: fotoresist, film sottili di processo, materiali dielettrici

lcd:OLEDSpessore del vetro、 ITO

Rivestimento ottico: spessore duro del rivestimento, rivestimento antiriflesso

Pellicola polimerica:PI、PC