Utilizzo dello strumento:
BMM-230BDDICIl microscopio a metallfase inversa utilizza un eccellente sistema ottico a distanza infinita per fornire prestazioni ottiche eccellenti. Il corpo compatto e stabile ad alta rigidità rappresenta pienamente i requisiti di antivibrazione per la microoperazione. Il design funzionale modulare può facilitare l'aggiornamento del sistema per realizzare l'osservazione polarizzata, l'osservazione del campo oscuro e l'osservazione dell'interferenza differenziale del campo chiaro. Il sistema di illuminazione prende pienamente in considerazione la dissipazione e la sicurezza e consente di sostituire rapidamente le lampadine. Il design ideale per soddisfare i requisiti ergonomici rende l'operazione più comoda e più spaziosa. Può essere utilizzato per chip di silicio semiconduttore,LCDLa microosservazione di sottostrati, polveri solide e altri campioni industriali è lo strumento ideale per la ricerca nei campi della scienza dei materiali e dell'elettronica di precisione.
Caratteristiche delle prestazioni:
▲ L'osservazione al microscopio può essere effettuata anche per campioni di forma irregolare o più grandi.
▲ Con occhiali a grande campo visivo e obiettivi a campo piatto a distanza di lavoro infinita, il campo visivo è grande e chiaro.
▲ Unico sistema anti-vibrazione, anti-muffa
Profilo del sistema:
Questo sistema è un prodotto ad alta tecnologia che combina perfettamente la tecnologia di microscopio ottico avanzata, la tecnologia di conversione fotoelettrica avanzata e la tecnologia di elaborazione dell'immagine all'avanguardia per lo sviluppo e lo sviluppo di successo. È possibile osservare facilmente le immagini metalliche sul monitor del computer, in modo da analizzare il profilo metallico, valutare e stampare le immagini.
Introduzione del prodotto:
Parametri tecnici:
|
Specifiche tecniche |
|
|
Occhiali |
Grande prospettiva Nessuna differenza di coloreSWF10X(Numero di sceneΦ22mm) |
|
Oggetto (dotato di/oggetti di interferenza differenziale di campo oscuro)
|
Obiettivi a distanza lunga e illimitata (senza diapositive) |
|
LMPlan5X/0.12 BDDICDistanza di lavoro:7.9 mm |
|
|
LMPlan10X/0.3 BDDICDistanza di lavoro:6.03 mm |
|
|
LMPlan20X/0.4 BDDICDistanza di lavoro:1.4 mm |
|
|
PL L50X/0. 70BDDistanza di lavoro:2.5 mm |
|
|
Inserimento di interferenza differenziale |
ApplicabileLMPlan5X、10X、20XBD DICOggetto |
|
Occhiali |
45˚Inclinazione,Regolazione della distanza oculare53~75mm. |
|
Organizzazione di focalizzazione |
Focalizzazione coassiale,Con serratura e limite di posizione,Valore della microgriglia:2.0μm. |
|
Convertitore |
Cinque fori(Posizionamento della sfera interna) |
|
Posto trasporto |
Carrier mobile meccanico, dimensioni:242mmX200mmRango di movimento30mmX30mm. |
|
Dimensioni della tavola rotonda rotabile: diametro esterno massimo Ф130mmIl diametro minimo è inferiore a F.20mm. |
|
|
Sistemi di illuminazione |
12V50WLampada alogenata, luminosità regolabile |
|
Appendice di campo visivo integrato, apertura e polarizzatore a tiratura |
|
|
Vetro macinato con filtri gialli, verdi e blu |
|
Configurazione del sistema:

Utilizzo dello strumento:
BMM-230BDDICIl microscopio a metallfase inversa utilizza un eccellente sistema ottico a distanza infinita per fornire prestazioni ottiche eccellenti. Il corpo compatto e stabile ad alta rigidità rappresenta pienamente i requisiti di antivibrazione per la microoperazione. Il design funzionale modulare può facilitare l'aggiornamento del sistema per realizzare l'osservazione polarizzata, l'osservazione del campo oscuro e l'osservazione dell'interferenza differenziale del campo chiaro. Il sistema di illuminazione prende pienamente in considerazione la dissipazione e la sicurezza e consente di sostituire rapidamente le lampadine. Il design ideale per soddisfare i requisiti ergonomici rende l'operazione più comoda e più spaziosa. Può essere utilizzato per chip di silicio semiconduttore,LCDLa microosservazione di sottostrati, polveri solide e altri campioni industriali è lo strumento ideale per la ricerca nei campi della scienza dei materiali e dell'elettronica di precisione.
Caratteristiche delle prestazioni:
▲ L'osservazione al microscopio può essere effettuata anche per campioni di forma irregolare o più grandi.
▲ Con occhiali a grande campo visivo e obiettivi a campo piatto a distanza di lavoro infinita, il campo visivo è grande e chiaro.
▲ Unico sistema anti-vibrazione, anti-muffa
Profilo del sistema:
Questo sistema è un prodotto ad alta tecnologia che combina perfettamente la tecnologia di microscopio ottico avanzata, la tecnologia di conversione fotoelettrica avanzata e la tecnologia di elaborazione dell'immagine all'avanguardia per lo sviluppo e lo sviluppo di successo. È possibile osservare facilmente le immagini metalliche sul monitor del computer, in modo da analizzare il profilo metallico, valutare e stampare le immagini.
Introduzione del prodotto:
Parametri tecnici:
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Specifiche tecniche |
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Occhiali |
Grande prospettiva Nessuna differenza di coloreSWF10X(Numero di sceneΦ22mm) |
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Oggetto (dotato di/oggetti di interferenza differenziale di campo oscuro)
|
Obiettivi a distanza lunga e illimitata (senza diapositive) |
|
LMPlan5X/0.12 BDDICDistanza di lavoro:7.9 mm |
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LMPlan10X/0.3 BDDICDistanza di lavoro:6.03 mm |
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LMPlan20X/0.4 BDDICDistanza di lavoro:1.4 mm |
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PL L50X/0. 70BDDistanza di lavoro:2.5 mm |
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Inserimento di interferenza differenziale |
ApplicabileLMPlan5X、10X、20XBD DICOggetto |
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Occhiali |
45˚Inclinazione,Regolazione della distanza oculare53~75mm. |
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Organizzazione di focalizzazione |
Focalizzazione coassiale,Con serratura e limite di posizione,Valore della microgriglia:2.0μm. |
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Convertitore |
Cinque fori(Posizionamento della sfera interna) |
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Posto trasporto |
Carrier mobile meccanico, dimensioni:242mmX200mmRango di movimento30mmX30mm. |
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Dimensioni della tavola rotonda rotabile: diametro esterno massimo Ф130mmIl diametro minimo è inferiore a F.20mm. |
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Sistemi di illuminazione |
12V50WLampada alogenata, luminosità regolabile |
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Appendice di campo visivo integrato, apertura e polarizzatore a tiratura |
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Vetro macinato con filtri gialli, verdi e blu |
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Configurazione del sistema:


