La tecnologia Nanoimprint ha rotto attraverso le difficoltà della litografia tradizionale nella riduzione delle dimensioni della caratteristica ed ha le caratteristiche di alta risoluzione, basso costo e alto rendimento. selfDalla sua proposta nel 1995, nanoimprinting ha subito 14 anni di sviluppo, evolvendosi in varie tecniche di imprinting ampiamente utilizzate nella fabbricazione dei semiconduttori mems、 Campi come biochip e biomedicina. Considerata come una delle prime dieci tecnologie che hanno cambiato l'umanità.
Macchina per goffratura NILL'idea di base è quella di trasferire la grafica sul substrato corrispondente attraverso un modello, e il mezzo di trasferimento è solitamente un film polimerico sottile. La struttura è indurita con metodi come pressatura a caldo o irradiazione per preservare la grafica trasferita. L'intero processo comprende due fasi: goffratura e trasferimento grafico. Secondo diversi metodi di stampa,NIL può essere diviso principalmente in tre tecniche di fotolitografia: incorporazione a caldo, polimerizzazione UV e stampa a micro contatto (uCP).

II funzione

lfunzione principale

La funzione principale di una macchina di nanoimprint è quella di trasferire il modello sul substrato corrispondente. Il mezzo di trasferimento è solitamente un film polimerico sottile, che è indurito attraverso metodi come pressatura a caldo o irradiazione per preservare il modello trasferito. La tecnologia di goffratura è principalmente divisa nei seguenti due tipi:

Pressatura a caldo:In primo luogo, applicare uno strato sottile di materiale polimerico termoplastico (comePMMA）。 Aumentare la temperatura e raggiungere sopra la temperatura di transizione del vetro Tg (temperatura di transizione del vetro) di questo materiale termoplastico. Sotto alta elasticità, i materiali termoplastici sono pressati su uno stampo nanoscale e sottoposti a pressione appropriata. Il materiale termoplastico riempie la cavità nello stampo e dopo il processo di stampaggio è completato, la temperatura diminuisce per solidificare il materiale termoplastico, con conseguente un modello che si sovrappone con lo stampo. Successivamente, rimuovere lo stampo ed eseguire vari processi di incisione per rimuovere polimeri residui. Successivamente, procederemo con il trasferimento grafico. Il trasferimento grafico può essere ottenuto attraverso metodi di incisione o stripping. La tecnologia di incisione utilizza materiali termoplastici come maschere per eseguire incisione anisotropica sul substrato sottostante, con conseguente pattern corrispondenti. Il processo di peeling deposita prima uno strato di metallo sulla superficie e poi scioglie il polimero con solventi organici. Di conseguenza, anche il metallo sul materiale termoplastico verrà rimosso, lasciando il metallo come maschera sul substrato. Successivamente, viene eseguita l'incisione per ottenere il modello.

Impronta UV:Al fine di migliorare lo svantaggio della deformazione termica nella stampaggio a caldo, l'Università del TexasC. G. Wilson e S. v. Sreenivasan ha sviluppato la litografia a impronta flash passo, che utilizza vetro di quarzo trasparente UV (stampo duro) o PDMS (stampo morbido) e una soluzione monomero a bassa viscosità e polimerizzazione leggera per photoresist. In primo luogo, rilasciare una soluzione monomero a bassa viscosità sul substrato da imprimere. In combinazione con la tecnologia microelettronica, la deposizione del film sottile può essere ottenuta utilizzando un metodo di rivestimento a rotazione. Il modello viene premuto sul wafer con pressione molto bassa per disperdere il liquido e riempire le cavità nel modello. L'esposizione ai raggi UV attraverso lo stampo favorisce la polimerizzazione e la solidificazione del polimero nell'area di imprinting. Infine, incidere lo strato residuo ed eseguire il trasferimento del modello per ottenere una struttura ad alto rapporto di aspetto. Il processo finale di demolding e trasferimento grafico è simile al processo di pressatura a caldo.

lCARATTERISTICHE

lCapacità tecniche

L'inventore di questo dispositivo era Stephen Y., l'inventore della tecnologia di nanoimprint all'Università di Princeton negli Stati Uniti, dal 2001 al 2003 Il laboratorio di nanostruttura del professor Chou, come assistente di ricerca, ha condotto un lavoro di ricerca di 3 anni e ha sviluppato la tecnologia e i materiali di nanoimprint curabili UV, apportando importanti contributi allo sviluppo della tecnologia di nanoimprint. Dopo essersi unito al Dipartimento di Scienza e Ingegneria dei Materiali nel 2004, ha continuato a condurre la ricerca sulla tecnologia di nanomicrofabbricazione e sulla tecnologia di nanoimprint, ha sviluppato parecchi nuovi materiali di nanoimprint, ha sviluppato nuovi modelli di impronta polimerica e proposto la tecnologia curva di nanoimprinttecnologia di goffratura del riso; utilizzareCon il supporto del progetto 863 "Sviluppo e applicazione dell'attrezzatura di Nanoimprint a doppio scopo per la polimerizzazione UV e la pressatura a caldo", un'attrezzatura di nanoimprint a doppio scopo con polimerizzazione UV e funzioni di pressatura a caldo è stata sviluppata con successo. È diventato un prodotto ed è stato adottato da molte università e istituzioni di ricerca come l'Università di Nanjing, l'Università di Beihang, l'Università della tecnologia di difesa nazionale, l'Università di Heilongjiang e l'Istituto di ricerca di Shenzhen dell'Accademia cinese delle scienze, formando una tecnologia di nanoimprint di base con i diritti di proprietà intellettuale indipendenti. Ha fatto domanda e ottenuto molteplici applicazioni per applicazioni specifiche Cina e Stati Uniti, e il suo livello tecnico è sincronizzato con il livello internazionale più avanzato in questo campo.